通过光照制作微型电子电路图案
光刻胶工艺中的曝光结构
利用光刻工艺，许多在控制显示屏像素亮度的核心半导体元件TFT(薄膜晶体管)上的精细电路图案可以被形成，因此该工艺在制作显示屏及提升显示清晰度方面发挥着至关重要作用。在如此重要的工艺过程中，不可缺少的一个阶段就是利用光照的曝光流程。在该流程中，对于涂布有对光照敏感光刻胶的TFT和刻有电路图案的掩膜版上进行曝光，接受光照的光刻胶特性就会发生变化，因此形成了相应光刻胶的图案。由于在显示屏TFT上刻制的电路图案非常精细，通常以微米为单位，因此在设备中使用波长较短的紫外线来提高精准度。在曝光流程之后，经过显影、刻蚀、去除等过程，最终完成光刻工艺。